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真空自耗電弧爐熔滴控制原理與實(shí)現(xiàn)

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真空自耗電弧爐熔滴控制原理與實(shí)現(xiàn)

發(fā)布日期:2017-07-06 作者:熔滴爐 點(diǎn)擊:

真空自耗爐的恒熔速熔煉

 

要想通過(guò)真空自耗重熔獲得高品質(zhì)的材料必須實(shí)現(xiàn)錠子的受控凝固。其重要一環(huán)就是自耗電極的受控恒熔速熔化

 

    研究表明,當(dāng)電弧放電產(chǎn)生的溫度足夠高時(shí),在自耗電極(陰極)底部會(huì)形成1-2mm的熔化金屬薄膜,在表面張力和重力的作用下逐漸形成熔滴,然后在陰極和陽(yáng)極之間的縫隙搭橋形成短路,流過(guò)短路熔滴的強(qiáng)大電流產(chǎn)生洛倫茲力,在高密度電流和洛倫茲力的作用下發(fā)生熔滴爆裂,細(xì)小的金屬液滴全方位噴射,最終大部分傳遞到金屬熔池。


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    所示,當(dāng)熔滴搭橋短路時(shí)我們可以過(guò)到一個(gè)電脈沖信號(hào),實(shí)踐表明,該信號(hào)的形態(tài)與弧隙長(zhǎng)度、熔滴的大小、黏度等參數(shù)密切相關(guān)。我們知道,在正常熔煉過(guò)程中會(huì)同時(shí)產(chǎn)生大量的短路熔滴,從而可以獲得足夠多的類似。熔滴爐


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